Grensesprengende teknologi for energi- og tidseffektiv produksjon av grafen
Bygging av prototype på produksjonsenhet for grafen, som skal lokaliseres i Stavangerområdet
Illustrasjonsbilde fra venstre: Cealtech AS
Illustrasjonsbilde fra høyre: Cealtech AS
Teknologileverandører
- CealTech AS
- California Institute of Technology (Caltech)
- W&L Coating Systems GmbH
Teknologisk innovasjon
- Bruk av plasma istedenfor varme til å igangsette prosessen (PECVD - Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition)
- Med bruk av PECVD reduseres energi- og tidsbruk (manglende behov for oppvarming og nedkjøling)
- Muliggjør masseproduksjon av grafen uten bruk av kjemikalier og vesentlig mer energi- og tidseffektivt enn konvensjonell teknologi
Kompetanseutvikling
- Kompetansebygging gjennom erfaringsdeling med samarbeidspartnere og kunder
- Samarbeid med Universitetet i Stavanger om nye anvendelsesområder for teknologien
- Utvikling av et kompetansemiljø innenfor denne type anlegg, herunder også drift og vedlikehold, bl.a. i samarbeid med AGA og Goodtech
- Kompetanse rundt produksjonsprosess for grafen
- Kompetanse rundt kvalitetskontroll av grafen
Realisert spredning av teknologi
- Første implementering globalt
Videre utvikling og videre spredning
- Grafen har et stort anvendelsesområde innenfor materialteknikk og elektronikk
- Teknologiutvikler planlegger å implementere teknologien i eget anlegg etter verifisering av teknologien i fullskala kontinuerlig produksjon, og anslår utvidelse av kapasiteten med omlag 1 maskin per år
- Grafen vil være sentralt i utvikling av ny produkter som vil ha positive effekter på klimaet i tiden fremover, og det jobbes allerede med store globale aktører for å få til dette.
- Potensiale nasjonalt og internasjonalt for spredning som kan gi energieffektivisering og reduserte utslipp av klimagasser
